ftkhon@foxmail.com    +66-0-840201519
Cont

Tens alguna pregunta?

+66-0-840201519

Preforma de fibra òptica

Preforma de fibra òptica

El procés MCVD es refereix al mètode de deposició de vapor químic millorat, que es compon de dues etapes de procés de deposició i contracció de la fusió (formació de varetes).
Enviar la consulta
Xateja ara

Introducció al producte

Talla Talla del producte

Diàmetre (mm)

Longitud (mm)

Típic

80/120/150/175/200

1100~3000

Personalitzat




Deposició de vapor químic modificat (MCVD)

El procés MCVD es refereix al mètode de deposició de vapor químic millorat, que es compon de dues etapes de procés de deposició i contracció de la fusió (formació de varetes). La deposició és escalfar el tub de reacció de quars d'alta qualitat preparat per endavant amb una flama d'oxigen d'hidrogen, utilitzar oxigen d'alta puresa com a gas portador, posar una certa proporció de SiCl4 i GeCl4 d'alta puresa al tub de reacció de quars i reaccionar per generar SiO2. i petites partícules moleculars de GeO2, que es dipositen a la paret interior del tub de reacció de quars segons el principi de la termoforesi. La contracció de fusió consisteix a fondre i encongir el tub de vidre buit de quars dipositat en una preforma sòlida de fibra òptica mitjançant la introducció de clor gasós. El procés és flexible en funcionament, pot controlar amb precisió el flux de matèries primeres i el nombre de capes de deposició, i pot produir preformes de fibra òptica amb un perfil d'índex de refracció fi, que afavoreix el control del rendiment de la fibra òptica.


Deposició axial en fase de vapor (VAD)

El procés VAD es refereix al mètode de deposició de vapor axial. El procés consisteix a vaporitzar la matèria primera sota la condició d'escalfament de la flama d'oxigen d'hidrogen i hidrolitzar a la flama per generar partícules de SiO2 i GeO2. Aquestes partícules es dipositen a la vareta inicial axial i la distribució de l'índex de refracció s'ajusta controlant la temperatura de deposició, la velocitat, el cabal de gas, l'estructura d'injecció i altres factors. Després de la deshidratació i la sinterització, les molècules d'aigua i els radicals hidroxil de la zona central de la preforma s'eliminen per formar un nucli de preforma transparent. Aquest procés té els avantatges d'una alta velocitat i eficiència de deposició, no és fàcil de barrejar impureses, una petita excentricitat del nucli i el revestiment i una bona economia.


Deposició de vapor exterior (OVD)

El procés OVD es refereix al mètode de deposició de vapor fora del tub. De manera similar al principi VAD, les matèries primeres es gasifiquen en condicions d'escalfament d'hidrogen i flama d'oxigen, i la reacció d'hidròlisi es produeix a la flama per generar partícules. Aquestes partícules es dipositen a la superfície exterior de la vareta inicial. Després d'arribar a una certa mida i treure la vareta inicial, la preforma buida es deshidrata i es sinteritza per formar una preforma sòlida transparent. Els avantatges d'aquest procés són que el procés és fàcil de controlar, l'eficiència de producció és alta i és adequat per a la fabricació de preformes de fibra òptica de gran mida.


Etiquetes populars: òptica fibra preforma

Enviar la consulta

(0/10)

clearall